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硅胶板
(SYQ-2A)
1.硅橡胶板高温布补强，实现了硅橡胶板在高温使用条件下，抗撕裂性能的大幅度提高，特别是PVA，EVA层压设备的应用，太阳能电池层压机的应用提供了可靠保证。2.耐腐蚀涂层的夹高温布硅橡胶板，是太阳能电池组件层压机最佳的选择。3.玻璃层压机用加布硅胶板，寿命是不加布硅橡胶板的3倍以上寿命。4.多...
更新:2016-02-19
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玻璃层压机用硅胶板
(SYQ-2B)
采用优质性能，绝缘性硅橡胶为原料，无毒无味，耐高温，弹性好，强度高，具有优良的耐热空气，老化性能，耐臭氧性能，绝缘性
更新:2016-02-19
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[二手] 光伏玻璃-台灣大廠餘料
(FSG及台玻多款)
一、1100mm*1300mm,厚度3.2+-0.2mm優白平板磨光邊二、1300*1100*3.2 mm, 磨邊導角, 有孔, 強化處理三、AR Coating 福萊特 FSG6*12(985mm*1953mm*3.2mm)4H 約有4000餘片，有些許彩虹紋滲出
更新:2015-10-20
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太阳能铝边框
张家港宝铖公司主要生产太阳能光伏电池（组件）铝合金边框，具有年产330万套铝合金框架的生产能力，能满足太阳能光伏电池（组件）各种规格要求。公司网址：WWW.baochengpv.com我们将以质优价廉，热情的服务满足您的生产需求。有需要订购的，请联系我，
更新:2015-10-10
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太阳能光伏彩钢瓦铝型材夹具
金能光伏支架系统产品系列涵盖屋顶系统、地面系统及光伏车棚等，适用于各种安装地点及环境。金能新能源提供各种专业光伏电站的支架解决方案，结合电站具体环境定制最优支架解决方案。
更新:2015-10-05
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太阳能光伏组件薄膜压块
金能光伏支架系统产品系列涵盖屋顶系统、地面系统及光伏车棚等，适用于各种安装地点及环境。金能新能源提供各种专业光伏电站的支架解决方案，结合电站具体环境定制最优支架解决方案。
更新:2015-02-28
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紫外正性光刻
(KMP C5315)
KMP C5315系列紫外正性光刻胶具有高感光度、高产出率、高分辨率及良好的工艺宽容度。专为G线、I线曝光优化，可广泛应用于半导体IC制造领域。
更新:2014-10-31
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紫外正性光刻
(KMP C5215)
KMP C5215系列紫外正性光刻胶具有高感光度、高产出率、高分辨率及良好的工艺宽容度。专为G线曝光优化，可广泛应用于半导体IC和LED制造领域。
更新:2014-10-31
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紫外正性光刻
(KMP C5308)
KMP C5308系列紫外正性光刻胶具有高感光度、高产出率、高分辨率及良好的工艺宽容度。专为G线、I线曝光优化，可广泛应用于半导体IC制造领域。
更新:2014-10-31
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负胶显影剂
一、用途用于BN系列产品的显影，也适用于其它种类负性光刻胶的显影。二、主要特征无色透明液体，易挥发，能与苯﹑***等混合，不溶于水。
更新:2014-10-31
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负胶去膜剂
一、用途用于去除BN系列产品的胶膜，也可用于其它同类光刻胶膜的去除。二、主要特征红棕色透明液体，能与水﹑醇等溶剂混溶，有腐蚀性。
更新:2014-10-31
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负胶表面处理剂
一、用途用于BN系列产品用SiO2、SiN4、多晶硅、磷、硼等衬底的表面处理。二、主要特征无色透明液体。其作用是将亲水基片表面转化为疏水表面，以增强胶膜与基片表面的粘附能力。三、理化指标将待处理的基片放在本产品中浸泡20分钟，然后在200℃下烘30分钟，冷却室温后即可涂胶。五、包装棕色瓶，500mL...
更新:2014-10-31
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紫外负性光刻胶
(BN303)
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负性光刻胶
(BN308)
BN308系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，主要用于分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负性光刻胶
(BN310)
BN303系列紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的阴图型光致抗蚀剂，具有较高的分辨率，主要用于中小规模集成电路、分立器件及其它微型器件的制作。
更新:2014-10-31
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负胶稀释剂
一、用途用于BN系列负胶的稀释，也可用于国外同类产品的稀释。二、主要特征无色透明液体，能与醇﹑醚﹑***等溶剂混合，不溶于水，有毒，易燃。
更新:2014-10-31
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负胶漂洗剂
一、用途用于BN系列产品显影后的漂洗，适用于国外同类产品的清洗。二、主要特征无色透明液体，有酯的香味。
更新:2014-10-31
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紫外正型光刻胶
紫外正型光刻胶是一类采用紫外线曝光的酚醛树脂类阳图型抗蚀剂，包括BP-212、BP-218等系列产品。这类产品具有高感度、高分辨率及良好的显影宽容度等优点，主要用于集成电路和液晶显示器件等微电子技术的制作。
更新:2014-10-31
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紫外负型光刻胶
紫外负型光刻胶是一类采用宽谱紫外线曝光的环化橡胶—重氮萘醌类阴图型抗蚀剂，包括BN-301、BN-303、BN-308、BN-310等系列产品。这类产品具有粘附性和抗湿法腐蚀性好及易于去胶等优点，主要用于分立器件、集成电路及其它微型零件等微电子技术的制作。
更新:2014-10-31
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正胶配套试剂
正胶配套试剂主要是与BP系列紫外正型光刻胶配套使用的一类超净高纯试剂，包括正胶表面处理剂、正胶显影剂、正胶去胶剂(去膜剂)、正胶稀释剂等产品。
更新:2014-10-31
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